中國科學院光電技（jì）術研究所（suǒ）真空/深紫（zǐ）外鍍膜課題組在真空紫外反射濾光（guāng）片製備方（fāng）麵取得進展，通過光譜反演技術獲（huò）取光學（xué）薄膜（mó）材料（liào）在真空（kōng）紫外波段的光學常數，進而（ér）優化真空紫外反射濾（lǜ）光膜膜係（xì）設計，並運用熱蒸發真空鍍膜工（gōng）藝製備出高性能（néng）的真（zhēn）空紫（zǐ）外反射濾光片。

極（jí）光在真空紫外波段的輝光發射可提供（gòng）諸如極光總能量、極光特征粒子種（zhǒng）類和特征粒子能量等重要信息，使得極光光譜成像成為天體物理研究的重要課題。目前，科研人員對真空（kōng）紫外（wài）波段的（de）極光光譜成像（UVI）研（yán）究主要包（bāo）括氧原子發射（shè）線（130.4和135.6nm）和氮分子發射帶（140-160和160-180nm）。為了獲取極光總能量（liàng）和（hé）上述（shù）各種特征離子能量迫切需要高性能的真空（kōng）紫外光學濾光片。由於所有（yǒu）的光學薄膜（mó）材料在真（zhēn）空紫外波段均具有極大的吸收損耗，常（cháng）用的透射式光學濾光片不可取，使得反射式光學濾光片（piàn）成為UVI係統（tǒng）的首選。

以氧原子（zǐ）發射線光譜成像為例，需要製備（bèi）出一種R135.6nm/R130.4nm足夠（gòu）高（gāo）的反（fǎn）射濾光片。國外Zukic等研究人員首先提出采（cǎi）用p結構多層膜設計，優化（huà）真（zhēn）空紫外反射濾光片的光譜性能。但是，p結構多層膜設計中存在大（dà）量厚度極薄的膜層（céng），增加了真空鍍膜的（de）製備難度。此外，光學薄膜材料在真空紫外波段的光學常數正確獲取與否，也將顯著地影響反射濾光片的最終光譜（pǔ）性能。該課題組研究人員通過光譜反演（yǎn）技術準確獲取薄膜光學常數，並限製反射濾光膜膜係中薄層厚度，優化反射濾光膜膜係設計，通過熱蒸發真空（kōng）鍍膜工藝製備出理論設計和實測（cè）光譜數據一致性良好的真空紫外反射濾光片。實測0°和45°入（rù）射角下的（de）反射濾光膜，其R135.6nm/R130.4nm比值分別為92.7和20.6，遠優於國外（wài）製（zhì）備的真空紫外反射濾光片。相關成果發表在Appl. Opt. (Appl. Opt. 54(35), 10498-10503, 2015)上。

光電所在真空紫外反（fǎn）射濾光片製備方麵取得進展