增透（tòu）膜介（jiè）紹（shào）
用於玻璃和塑料基底上的增透（tòu）膜
在光學係統中，一個相（xiàng）當重要的組成部分是鏡片上能降低反射的鍍膜。在很多應用領域中（zhōng），增透膜是不可缺少的，否則，無法達到應用的要求。
就拿一個由（yóu）18塊透鏡組成的35mm的自動變焦的照相機來說，假定每個玻璃和空（kōng）氣的界麵有4%的反射，沒有增透的鏡頭光透過率為27%，鍍有一層膜（剩餘的反射為1.3%）的鏡（jìng）頭光透過率為66%，鍍多層（céng）膜（剩餘的反射為0.5%）的為85%。
用於玻璃（lí）基底的增透膜
經典的單層增透膜由一薄層MgF2構成，MgF2在（zài）510nm時的折射（shè）率為n=1.38，需要的膜（mó）厚為d=92nm。因此，在510nm波長時膜層有一個（gè）光學密度（厚度）n*d為1/4的（de）波長。鍍在加熱到（dào）250-300°C的玻璃基底上的MgF2，不但牢固，穩定，並且相當方便，經濟。
想得到更（gèng）低的反射率，最簡單的方（fāng）法是鍍一層CeF3和一層MgF2（各為1/4的光學厚度），可用蒸（zhēng）發船。2層膜的優點是在可見光範圍的中段有更低的反射率，缺點在於在紅，藍端的反射率上升過快。
由於2層膜的效果（guǒ）不（bú）理想，為了達到理想的效果，必須使用3層或多層（céng）膜。
經典的3層膜由一層（céng）1/4光學厚（hòu）度的中折射率物質（1.6-1.7)，一層（céng）1/2光學厚（hòu）度的高折射率物質(2.0-2.2)和一層1/4光學厚度的低折射率物質組成。最常用的是Al2O3，ZrO2和MgF2。
在整個光學敏感段（410-680nm）的反射率低於0.5%。3層增透膜的膜（mó）料選擇
膜（mó）料對膜（mó）層（céng）效果有（yǒu）決定性的（de）影響。除了理想的（de）折射（shè）率，每次鍍膜時穩定的折射率，均勻的膜層，低吸收性，牢固性，穩（wěn）定性也非常重要。
MgF2是最常用的第三層低折射率物質。但是，由於塑料不能被高（gāo）溫加熱，用MgF2會使膜層變軟和不（bú）穩定，此時，SiO2是最佳（jiā）的選擇。
Al2O3是最常用的第一層中折（shé）射率物質。它的膜層從紅外到紫外線有相（xiàng）當高的透過率，十分（fèn）牢固，穩定，並（bìng）且（qiě）每次鍍膜（mó）時（shí）有穩定的折射率。
ZrO2通常被用作第二層高折射率物質。它的優（yōu）點是從（cóng）250到7000nm有寬廣（guǎng）的透（tòu）過率，並且，膜層牢固，穩定（dìng）。但是，每次鍍膜時呈（chéng）現不同的折射率，也就是（shì）折射率會隨著膜（mó）厚的增（zēng）加而降低，這種現象可能和它的特殊晶體結構有關。在五個單獨的膜層中ZrO2不同的（de）折（shé）射率。我們可以看到（dào）和和同次性的膜料相比，折射率有急劇的上升（shēng），特別是在中段。ZrO2的另一個缺點是在蒸發是它隻是（shì）部分的溶解，因此，很難得到均勻的膜厚（hòu）。
為了減少單體氧化物的這些缺點，可以使用混（hún）合氧化物。這些混合料（liào）可以根據客戶不（bú）同的折（shé）射率（lǜ）需要來生產。
德國默克公司根據客（kè）戶大量的（de）實際使用情況和多年的（de）膜料生產經驗，研製開發了（le）一（yī）係列的混合（hé）料：
H1， 高折射率， 2.1-2.15
H2， 高折射率， 2.1-2.15
H4， 高折射（shè）率， 2.1-2.15
M1， 中折射率， 1.65-1.7
H1,H2和H4可以被用來生產高折射率的膜層，在250°C的基底上2.1-2.15的折射率具有同次性。M1可以被用來生產中折射率（lǜ）得（dé）膜層。H1,H4和（hé）M1也（yě）能鍍在未經加熱的基底上，折（shé）射率會降低。
H1在從可見光到（dào）紫外的波（bō）段內有相當高的透（tòu）過率，在360nm左右有吸收。但（dàn）是，同ZrO2一樣，無法從溶解的狀態下被蒸發，因（yīn）此較難得到比較均（jun1）勻的膜層（céng）。
H2在（zài）可見光的波（bō）段（duàn）內有很高的透過率（lǜ），但是在380nm時（shí）有截止吸收，這意味著當鍍膜條件不理想時，1/2光學厚度的末曾在400nm時會有0.5%的吸（xī）收。H2的優點在於它能從溶解的狀態下被蒸發，因此有良好的同次性和均勻的膜厚。
H4在可見光的波段（duàn）內有很高的透過率，像H1一樣（yàng），在（zài）360n左右有吸收（shōu）。它也能（néng）從溶解的（de）狀態下被蒸發，具有良好的同次性和均勻的膜厚。
M1在從（cóng）近紅外到近紫外的波段內有很（hěn）高的透（tòu）過率，在300nm時有吸收。它也能（néng）從溶解的狀（zhuàng）態下被（bèi）蒸發，具有良好的同次性和均勻的膜厚。此物質適合於（yú）在高折（shé）射率的膜層上鍍增透膜。
我們也可以僅用氧化物來鍍（dù）增透膜。有時會需要很薄的膜厚，在（zài）膜厚和折射率上微小的變動都（dōu）會有很大的影響，因此相對於經典（diǎn）的（de）3層（céng）膜係來說要難（nán）得多。從中可以看出，3層膜在中間波段有最（zuì）低的反射率，但是4層膜（mó）C有著3層膜無法實現的從400到700nm寬廣的低於0.5%的（de）反射率。
用於塑料基底的增透膜在塑料基底上鍍膜，我們無法在鍍膜過（guò）程中加熱基底。因此，我們必（bì）須膜料的（de）選擇上倍加（jiā）小心以確保它能在低溫下形成穩定的膜層（céng）。此外，由於溫度偏低，折射率（lǜ）也隨之變低，因此（cǐ），相應的膜層設計也要改變（biàn）。
MgF2不能在低溫下被蒸鍍，因為隻有（yǒu）在200°C以上的溫度時它才能形成穩（wěn）定的膜層。因此，我們隻能選擇氧（yǎng）化物來蒸鍍。
我們可（kě）以使用下（xià）列氧化物：
SiO2 在塑料基底上（shàng）的折射率為 1.45
Al2O3 1.62
M11.65
Y2O3 1.8
ZrO2 1.9
H11.95
H41.95
TiO2 1.9-2.0
H2不能在低溫下被蒸鍍，因為它在藍光波段有吸（xī）收。
最常用的塑料基底是：
CR39 折射率為（wéi） 1.5
聚碳酸酯（zhǐ）1.59
PMMA1.48-1.50
