改動光（guāng）與光（guāng）學器件相互（hù）作用的光學薄膜隨處可見，而且廣泛運用於各種範疇。例如用於眼鏡和照相機鏡頭外表的寬帶增透膜，用於（yú）軍民兩用激光（guāng）和光纖設備中更為雜亂的增透膜（mó）。修建照明、夜視鏡運用的是光學帶通濾（lǜ）光片技（jì）能，而挑選性地反射不一樣波長光（guāng）的鏡子用於家庭裝潢和影劇院增加（jiā）燈光效果（guǒ）。

Evatec公司的市場部司理Allan Jaunzens在歐（ōu）洲光學網（Optics.org）發文對光學薄膜的真空熱蒸騰和（hé）濺射製備技能進行了總結，並（bìng）對下一代製（zhì）備光學薄膜的新技能進行了展望。現摘譯如下：

傳（chuán）統真空熱蒸騰

真空熱蒸騰（téng）是最早確立且最為廣泛運用的光學薄膜製（zhì）備（bèi）技能，這種製備（bèi）辦法經過加熱薄膜原資料使得原（yuán）子或許分子從（cóng）薄膜原資料中逸出，隨後這些原子或分子在真空室內經過分散抵達（dá）基片，然後澱積在基片上構（gòu）成接連膜。依據（jù）蒸騰薄膜原資料組份的不一樣，真空熱（rè）蒸騰（téng）能夠分為（wéi）熱舟（zhōu）蒸騰、電子束熱蒸騰。運用這種薄膜製備技能，在（zài）不一樣的蒸騰源中（zhōng）放（fàng）入不一樣的（de）資料經過操控蒸（zhēng）騰功率和鍍膜時間（jiān）交替蒸騰原資料，能夠取得滿意規劃請求的多層（céng）膜堆。為取得最好的基底與薄膜的聯係功能和光學（xué）特性，在鍍膜進程中基底一般進行烘烤以及要衝入反響（xiǎng）氣體以取得（dé）滿意化學計量比的薄膜。現在運用真空（kōng）熱蒸（zhēng）騰（téng）技能已能鍍製100層以（yǐ）上的薄膜。

離子輔佐熱蒸騰

因為澱積粒子能（néng）量低（一般0.1-1eV）以及低的外表遷移性，使得傳統熱（rè）蒸（zhēng）騰辦法所製（zhì）備薄膜堆積密度（dù）較低，存在光學和力學方麵的不（bú）安穩性。離子輔佐澱積是在真空熱蒸騰基礎上為改進（jìn）光學薄膜質量（liàng）而發展起來的。它經過運用離子源發生荷能離子炮（pào）擊基片，經（jīng）過動量（liàng）搬運，使澱積粒子取得較大動能，提高澱積粒子的遷移功能，改進傳統熱蒸騰（téng）辦法帶來的空地和陰影效應。取得更高能量澱積粒子的（de）輔佐辦法是等離子體輔佐和離子鍍辦（bàn）法，在這種製備辦法中，蒸騰（téng）資（zī）料自身也被部（bù）別離化，粒子抵達基片外表時具（jù）有很高的動能，到達10eV。運用此辦法製備（bèi）的薄膜，堆積密度高，十分挨近理論上的資料值，當放置在空氣中時，幾乎沒有（yǒu）水吸收。此（cǐ）類（lèi）薄膜還具有高的折射率（lǜ），傑出的附著功能，力學功能和安穩性，當被加（jiā）熱（rè）或放在較濕環境中時，幾乎沒有光譜漂移。但此辦法比較傳統熱蒸騰辦法花費更（gèng）高的本錢。

磁控濺射（shè）

最常用的磁控濺射體係（xì）是反響磁（cí）控濺射，運用所需薄膜資料的源作為靶材，放置在真空室內（nèi）。在靶材外表，運用強磁場和強電（diàn）場束縛電子運（yùn）動，使得靶外表的作業氣體的發生正（zhèng）電荷等離子（zǐ）體。 因（yīn）為這種電子（zǐ）的磁束縛，增加了帶能電子與作業氣體分子磕碰（pèng）的概率，構成（chéng）了更（gèng）高的離化率。帶電離子在電場中加快衝擊靶（bǎ）才外表，在這種炮擊進程中，荷能粒子將動量傳遞靶材中的粒子（zǐ），使得靶材粒子（zǐ）彈射出（chū）固體外（wài）表。這個進程與加熱致使的蒸騰進程截然不一樣。濺射出來的粒子一般為中性，因而，不受到靶外表電磁場的束縛，而經過在真空室（shì）的運動到（dào）基（jī）底外表（biǎo），並在適宜的方（fāng）位上凝結成薄膜。真空（kōng）中的運動（dòng）長度一般是（shì）40~100毫米。這個堆積進程一般也是反響進程，需要向真空室（shì）中充入摻雜氣體，如氧氣。

在曩昔十年，因為電源技能和進程操控技（jì）能的發展，磁控濺射技能在光學薄膜範疇（chóu）取得了十分廣泛（fàn）的運用。今日，大規模出產中運用反響磁控濺射技能取得的光譜操控精度優於正負1%，一起，該技能能夠取得極高的產率和重複性（xìng）。

因為堆積粒子具有很高的動能（néng）和移動（dòng）性，運用磁控濺射技能製備薄膜具有構造細密、安穩的薄膜，能（néng）夠取得優良的機械功能（néng）和光學安穩性，這（zhè）使得磁控濺射技能變成許多薄膜製備需要的首選技能。靶與基底方位聯係有立式和水（shuǐ）平式兩種（zhǒng）挑選，這也為磁控濺射體係的規劃帶來了便當。磁控濺射技能（néng）一般不需要（yào）額定的加熱體係。 其缺點是，隻能在平的基底上堆積均勻（yún）的薄膜，且（qiě）前期投資很高。

離（lí）子束濺射

離子束濺射澱積是一種高能薄膜製備技能（néng），它運用獨（dú）立的離子源（yuán）發生（shēng）離子束炮擊靶材實（shí）施濺射澱積。激光陀螺儀用鏡片（piàn）嚴苛的背散射請求需要十分優質的薄膜外表質（zhì）量，離子束濺射澱積技能初始即是為了製備高質量的（de）激光陀螺儀用（yòng）鏡片而發展起來的。

離子束濺射澱積技能（néng）雖然澱積速率相對較低（dī），但（dàn）其挨近20eV的高能澱積粒子有助於膜的構成（chéng），比較（jiào）於其它薄膜製（zhì）備技（jì）能，膜層能夠取得（dé）最（zuì）好的機械、光學功能，從而使其（qí）傾向於運（yùn）用在一些對薄膜請求十分嚴苛的（de）範疇。

下一代技能

高（gāo）功率脈衝磁控濺射(HIPIMS或HPPMS)是一種新式磁（cí）控濺射技能，它能在50~200微秒的時間內發生kW/cm²量級的超高能脈（mò）衝，其重（chóng）複頻率能夠到達（dá）100Hz以上。靶電流密度能到（dào）達A/cm²量級，這將大大提高濺射原子的離化率。已經有許多報道聲稱他們運（yùn）用這種技能取（qǔ）得了（le）附著（zhe）力和耐（nài）磨才能極好的無缺（quē）點薄膜。這些薄膜能夠運用高（gāo）溫腐蝕環境，包括航空航天技能中。

更深化的了（le）解薄膜的構造與性質之間的聯（lián）係（xì）是開（kāi）發和運用這些（xiē）薄膜技能的要害的地方（fāng）。